GMD2000系列顏料研磨分散設(shè)備的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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zui高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。此款研磨分散機比普通的分散機機的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。
幾種顏料研磨分散設(shè)備的比較
以天然石英砂、玻璃珠或陶瓷珠子分散介質(zhì)的砂磨機,對于細(xì)顆粒而又易分散的合成顏料、粗顆粒或微粉化的天然顏料和填料等易流動的漆漿,都是高效的分散設(shè)備。其生產(chǎn)能力高、分散精度好、能耗低、噪音小,溶劑揮發(fā)少、結(jié)構(gòu)簡單、便于維護、能連續(xù)生產(chǎn)。因此,在多種類型的磁漆和底漆生產(chǎn)中獲得了廣泛的應(yīng)用。但是,它不適用于生產(chǎn)膏狀或厚漿型的懸浮分散體,用于加工炭黑等細(xì)顆粒而難分散的合成顏料時生產(chǎn)效率低,用于生產(chǎn)磨蝕性顏料時則易于磨損,這些因素都應(yīng)在選用設(shè)備時結(jié)合具體情況予以考慮。
球磨機同樣也適用于分散易流動的懸浮分散體系,它適用于分散任何品種的顏料,對于分散粗顆粒的顏料、填料、磨蝕性顏料和細(xì)顆粒又難分散的合成顏料有著突出的效果。臥式球磨機由于密閉操作,故適用于要求防止溶劑揮發(fā)及含**物的產(chǎn)品。由于其研磨細(xì)度難以達(dá)到15um以下,且清洗換色困難,故不適于加工高精度的漆漿及經(jīng)常調(diào)換花色品種的場合。
三輥機生產(chǎn)能力一般較低、結(jié)構(gòu)復(fù)雜,手工操作勞動強度大、敞開操作溶劑揮發(fā)損失大,故應(yīng)用范圍受到一定限制。但是它適用于高粘度漆漿和厚漿型產(chǎn)品的特點為砂磨機和球磨機所不及。因而被廣泛用于厚漆、膩子及部分厚漿狀美術(shù)漆生產(chǎn)。
三輥機易于加工細(xì)顆粒而又難分散的合成顏料及細(xì)度要求為5—10um的高精度產(chǎn)品。目前對于某些貴重顏料,一些廠家為充分發(fā)揮其著色力、遮蓋力等顏料特性,以節(jié)省用量,往往采用三輥機研磨之。由于三輥機中不等速運轉(zhuǎn)的兩輥之間能產(chǎn)生巨大的剪切力,導(dǎo)致高固體含量的漆料對顏料濕潤充分,從而有利于獲得較好的產(chǎn)品質(zhì)量,因而被一些廠家用來生產(chǎn)高質(zhì)量的面漆。除此之外,由于三輥機清洗換色比較方便,也常和砂磨機配合應(yīng)用,用于制造復(fù)色磁漆用的少量調(diào)色漆。
因為好多漿料如油墨,顏料 單用一種膠體磨或分散機是無法達(dá)到客戶所要求的理想粒徑要求已經(jīng)分散效果要求。SGN客戶在SGN實驗室實驗室做完實驗后經(jīng)常會遇到這樣的痛苦,物料已經(jīng)用N多種國產(chǎn)研磨設(shè)備處理過了,達(dá)不到效果,zui后放下國產(chǎn)設(shè)備的價格優(yōu)勢找到中德合作的SGN,雖然SGN研磨分散設(shè)備制造精密,但也不是萬能的,在客戶要求SGN重新做處理方案時,SGN研發(fā)工程師協(xié)同客戶一起研發(fā)出了研磨分散機,SGN公司總為研磨分散機定型號為GMD2000系列。研磨分散機的研制,成功解決了原有設(shè)備粒徑處理不理想的問題。一方面解決清洗難得問題,二來解決腐蝕問題,
研磨分散設(shè)備的類型是決定色漆生產(chǎn)工藝過程的關(guān)鍵。選用的研磨分散設(shè)備不同,工藝過程也不同。例如砂磨機分散工藝,一般需要在附有高速分散機的預(yù)混合罐中進行研磨漆漿的預(yù)混合,再以砂磨機研磨分散至細(xì)度合格。由于砂磨機研磨漆漿粘度較低,易于流動,大批量生產(chǎn)時可以機械泵為動力,通過管道進行輸送;小批量多品種生產(chǎn)也可以用容器移動的方式進行漆漿的轉(zhuǎn)移。球蘑機工藝的配料預(yù)混合與研磨分散則在球磨筒**一并進行,研磨漆漿可用管道輸送(以機械泵或靜位差為動力)和活動容器運送兩種方式。三輥機分散因漆漿較稠,故一般用換罐式攪拌混合,以活動容器運送的方式實現(xiàn)漆漿的傳送。
顏料研磨分散機
納米研磨分散設(shè)備
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impact force)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)?/span>研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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